『第13回半導体パッケージング技術展~ICP~』
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展示会出展製品のご案内
◆出展内容◆ |
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【新製品】 業界初の新技術! | |
無電解ニッケルめっき用水シミ・乾燥シミ除去剤 エスクリーンS-101PN |
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【酸化皮膜除去剤】 | |
鉄・銅および銅合金用中性サビ取り剤 エスクリーンS-800 | 詳細ページへ |
ステンレス鋼用ノンフッ素スケール除去剤 エスピュアSJ-100 | 詳細ページへ |
ステンレス鋼用ノンフッ素溶接焼け除去剤 エスピュアSJ-400 | 詳細ページへ |
チタン・チタン合金用酸化皮膜除去剤 エスクリーンS-109 | |
【化学研磨液】 | |
コバール用化学研磨液 エスクリーンS-505 | 詳細ページへ |
チタン用光沢化学研磨液 エスクリーンS-22 | 詳細ページへ |
銅・銅合金用光沢化学研磨液 エスクリーン S-710 | 詳細ページへ |
ステンレス鋼およびコバール用光沢化学研磨液 エスクリーン S-200LS | 詳細ページへ |
【複合微細研磨】 | |
複合微細研磨技術 U-RAM | |
【乾燥剤】 | |
湿度を化学的にコントロール ドライキープシリーズ | 詳細ページへ |
お問い合わせ承っております
第13回半導体パッケージング技術展において、「酸化皮膜除去剤」をはじめ、「化学研磨液」「複合微細研磨技術」「湿度を化学的にコントロールする乾燥剤」をご紹介させていただきました。
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過去の展示会出展実績 2003~2011年