無電解ニッケルめっき用水シミ・乾燥シミ除去剤
素地であるニッケルめっきを侵すことなく、めっき上の酸化皮膜や水シミ・乾燥シミを剥離することができる“業界初※の技術”が込められた製品です。市場のニーズを受け、開発を始めた当製品は、2011年7月に第一弾を発表。新性能を付与し「エスクリーンS-101PN」として2012年1月、新たに市場投入致しました。
（※当社調べ）
ニッケルめっき素地を侵さず除去可能「エスクリーンS-101PN」
無電解ニッケルめっき上に酸化皮膜がのっていると、密着不良や変色などの原因になってしまいます。しかし、この「エスクリーンS-101PN」は浸漬するだけで、無電解ニッケルめっき素地に影響を与えることなく、無電解ニッケルめっき上に発生した水シミ・乾燥シミや酸化皮膜のみを除去することができます。（5μm以上の除去も可能）
シミ発生時、従来のようにめっきを一度剥がして再度施すという作業が必要なくなり、工程省略やコスト削減などに貢献できます。
使用場面に合わせて処理工程調整可能
|
【曲げ加工テスト比較写真】
|
|
左写真：表面調整工程なし 右写真：表面調整工程あり |
最短浸漬時間30秒：無電解ニッケルめっき素地に影響を与えることなく、最短処理時間30秒で表面上に発生したシミや酸化皮膜のみを除去することが出来ます。
密着性向上：使用場面・部材の状況に合わせて様々な処理工程を提案することが可能です。特にめっきを施す際に効果を発揮します。（上写真参照）通常であれば左写真のようにめっきの密着不良が起こりますが、表面調整処理を施すことで右写真のように密着性が向上します。
使用方法
一般的な処理工程は、脱脂→水洗→エスクリーンS-101PNに浸漬→水洗→脱水（乾燥） です。
（イメージ画像）
ニッケルめっき
電解ニッケルめっきと無電解ニッケルめっき
ニッケルめっきの生成には、大きくわけて「電解」「無電解」の2つの方法があります。
電解ニッケルめっきは、通電により皮膜を生成するため、被めっき物は電気を通すものでなければいけません。主に、装飾・機能・電鋳が目的です。
無電解ニッケルめっきは、液に含浸し化学的還元作用により皮膜を生成するため、プラスチックやセラミックスなど不導体にもめっき処理ができます。また、複雑な形状のものに対しても、均一な厚みの皮膜をつけることが可能です。無電解ニッケルめっきは主に、耐食性・硬さ・電気抵抗という特徴があります。
※エスクリーンS-101PNは、無電解ニッケルめっき用の酸化皮膜除去剤です。
ニッケルめっきの特徴
ニッケルめっきは、耐食性や非磁性、加工作業性に優れるなどという面から、機能めっきとして重宝されるめっきの一種です。耐食性の向上を目的に、下地めっきや中間層として装飾品から電子部品まで広くに用いられています。
※機能めっきとは、先端技術を支える優れた表面改質技術のことです。
純ニッケルに光沢を与える場合は、ニッケル用光沢化学研磨液【エスクリーンMY-28】をおすすめします。
ニッケルめっき上の皮膜
ニッケルめっきの上に皮膜ができる主な原因は、めっき液への不純物混合や、めっき後の水洗不良・乾燥不良だと考えられています。その他、リンの含有量なども影響します。また変色など表面状態がひどい場合は、皮膜が形成されているのではなく、ニッケルめっき自体が腐食している可能性があります。腐食は主に、ニッケルめっきのピンホールに液が残ることで発生します。このような場合、めっき自体が化学反応を起こし成分が変化しているため、ニッケルめっきを剥離して再度めっき処理を行う必要があります。
ニッケルめっきを剥離する場合は、各種めっき剥離剤【エスバックH-150シリーズ】をおすすめします。
カタログはこちらからご覧いただけます。
※PDFをご覧頂くにはAdobe Acrobat Readerをインストールしてください。
